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  • 2023

    7-18

    反应离子刻蚀机是一种常见的微纳加工设备,广泛用于制备纳米结构、纳米器件及微电子器件。在使用离子刻蚀机时,我们需要注意以下几个方面:1.环境安全:由于离子刻蚀过程涉及高能粒子的释放和化学气体的使用,因此必须确保使用环境的安全。首先,反应离子刻蚀机应放置在独立的实验室或室内,避免与其他设备或工作区域产生干扰。其次,应设置合适的排风系统,以及处理有害气体和废液的系统,确保工作环境的安全。2.人身安全:在运行过程中产生大量高能粒子,这些粒子有可能对人员造成伤害。因此,在操作时,必须穿...

  • 2023

    7-14

    等离子刻蚀机是一种用于微纳加工的设备,主要用于制造集成电路、光学器件、纳米材料等领域。它通过产生等离子体,利用等离子体与材料表面的化学反应和物理碰撞来去除材料表面的部分物质,从而实现微细结构的制造和加工。等离子刻蚀机具有高精度、高效率、高可控性等优点,广泛应用于半导体、光电子、生物医学等领域。等离子刻蚀机是一种利用等离子体来刻蚀材料的设备。其工作原理如下:等离子体产生:在等离子刻蚀机中,通过加入适量的气体(如氧气、氟气等)和施加高频电场,可以在真空室中产生等离子体。高频电场使...

  • 2023

    7-4

    反应离子刻蚀机是一种常用的表面处理设备,广泛应用于半导体、光学器件等领域。它的主要原理是利用离子束的能量和动量来去除材料表面的薄层或形成微细结构,从而改变材料的物理和化学性质。下面将从原理、应用和发展趋势等方面介绍反应离子刻蚀机。反应离子刻蚀机的主要原理是利用反应离子束中的能量和动量来对材料表面进行刻蚀。在刻蚀过程中,反应离子与材料表面发生相互作用,引起化学反应或物理性的去除,从而实现对材料的改变。其刻蚀速率可以通过离子束的能量、流强度和角分布等参数来控制,达到精密的刻蚀效果...

  • 2023

    6-16

    使用双束电镜是一项高精密度的工作,需要遵循一些注意事项以保证实验的准确性和安全性。以下是使用双束电镜时需要注意的事项:1.安全操作:在进行任何实验之前,必须了解并掌握双束电镜的正常操作程序,包括安全操作、紧急停机等。在操作时必须佩戴防护眼镜和手套等个人防护装备。2.维护设备:要定期检查设备的状态,如灯泡是否损坏、电池是否充满等,并及时更换或修理。同时,要清洁设备,避免灰尘等杂质对实验结果的影响。3.选择合适的电压:根据需要观察的样品类型和目标分辨率选择合适的电压,避免因电压过...

  • 2023

    6-14

    台式薄膜探针反射仪应用:二十年来,SENTECH已经成功地销售了用于各种应用的薄膜厚度探针FTPadv。这种台式反射仪的特点是不管在低温或高温下,在工业或研发环境中,都能通过远程或直接控制,对小样品或大样品进行实时或在线厚度测量。台式反射仪FTPadv精确、可重复地测量反射和透明衬底上透明和弱吸收膜的厚度和折射率。FTPadv可以结合在显微镜上,或者配备有稳定的光源,用于测量厚度达到25µm(根据要求可更厚)的膜层。更具备了从SENTECH光谱椭偏仪经验中受益的预...

  • 2023

    6-2

    双束电镜是一种高级显微技术,它利用电子束而非可见光来照射样品,从而产生高分辨率的图像。与传统单束电子显微镜相比,双束电镜具有更高的空间分辨率和更好的深度信息。首先,我们来介绍双束电镜的基本原理。与传统电子显微镜不同,该设备使用两个电子束同时照射样品,一个束用于成像,另一个束则用于修正成像所遇到的散射。通过对这两束电子的交互作用进行精确控制,该设备能够消除成像中的模糊和畸变,从而实现更清晰和准确的成像。其次,双束电镜的应用领域非常广泛。由于其出色的分辨率和深度信息,它已经被广泛...

  • 2023

    5-18

    扫描电镜是一种高分辨率成像仪器,常用于观察微小的表面形貌和结构,具有很高的分辨率和放大倍数。以下是扫描电镜的使用方法及注意事项。一、使用方法:1.样品制备。首先需要将待观察的样品进行制备,如金属、陶瓷等坚硬材料需要切割或打磨;生物组织需要切片。制备完成后需要将样品放置在真空室中。2真空处理。开启真空泵对真空室进行抽气,直至压力达到规定值。保持真空室内恒温,并且在操作过程中不得打开真空室门,以免污染样品表面。3.像素设置。根据所需的分辨率和放大倍数等参数进行设置。4.样品安装。...

  • 2023

    5-18

    等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气...

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